27.02.2026
Бельгийцы обнаружили возможность ускорить производительность EUV-сканеров на ровном месте
Без рубрикиadminПроцесс переноса изображения с маски на фоточувствительный слой на кремниевой пластине при изготовлении чипов балансирует между качеством и скоростью нанесения рисунка. Ускорить его можно либо повысив мощность излучения, с чем есть проблемы, либо повысив чувствительность фоторезиста, с чем тоже всё не очень хорошо. Исследователи из бельгийского Imec нашли неожиданный вариант по ускорению процесса, который до сих пор почему-то не рассматривался. Обзор ноутбука HONOR MagicBook X16 2026: как раньше, только лучше Обзор и тестирование моноблока iRU 23ID: стильный, быстрый и тихий Обзор смартфона realme C85 Pro: непотопляемый Обзор смартфона Sony Xperia […]