24.03.2026
«За пределами EUV»: Lace Lithography готовит литографию на атомах гелия с разрешением 0,1 нм
Без рубрикиadminНорвежский стартап Lace Lithography при поддержке Microsoft привлёк $40 млн в рамках первого раунда финансирования для разработки литографического сканера, использующего пучок атомов гелия при обработке кремниевых пластин. Компания утверждает, что её технология позволит создавать элементы чипов в 10 раз меньшего размера, чем существующие системы литографии, с шириной пучка всего 0,1 нм — EUV-сканеры ASML используют излучение с длиной волны 13,5 нм. Обзор Apple MacBook Neo: удивительно хороший ноутбук с процессором от iPhone Компьютер месяца, спецвыпуск: эпоха отката, или Как дефицит чипов памяти влияет на выбор железа для игрового ПК Обзор […]