Правительство РФ скорректировало требования к локализации интегральных схем, утвердив двухуровневую балльную систему и переходный период. Соответствующие изменения будут внесены в постановление №719, которое устанавливает комплексные требования к подтверждению производства отечественных интегральных схем и вводит переходный период.

Гид по выбору OLED-монитора в 2026 году: эволюция в деталях

Обзор Apple MacBook Neo: удивительно хороший ноутбук с процессором от iPhone

Обзор ноутбука HONOR MagicBook X16 2026: как раньше, только лучше

От Ryzen 7 1800X до Ryzen 7 9850X3D: девять лет эволюции AMD в одном тесте

Ryzen и 16 Гбайт DDR5: как сэкономить на памяти так, чтобы не лишиться 15 % производительности

Обзор Samsung Galaxy Z TriFold: тройной складной смартфон по цене квартиры в Воркуте

Обзор Ryzen 7 9850X3D: три процента за двадцать баксов

Компьютер месяца, спецвыпуск: эпоха отката, или Как дефицит чипов памяти влияет на выбор железа для игрового ПК

Опубликованный на портале правовых актов документ указывает на то, что производителям потребуется набирать баллы за каждый отдельный процесс производства интегральных схем. Изменения вступят в силу 1 января 2027 года.
Изменения в постановление правительства №719 обсуждались в Минпромторге с июля прошлого года. Планировался кардинальный пересмотр системы оценки локализации микросхем со смещением фокуса с разработки чипов в России на реальное производство, корпусирование и модернизацию на территории страны. На тот момент предлагалось введение трехуровневой системы. Для признания продукции первого уровня необходимо набрать 100 баллов до 2035 года, т.е. выполнить все поставленные условия. Второй и третий уровни требовали набрать 55 и 36 баллов соответственно. Там также присутствовал поэтапный график перехода на использование отечественных компонентов, таких как фоторезисторы, корпуса и подложки, фотошаблоны.
В отличие от предыдущей версии постановления, в новом проекте осталось только два уровня локализации интегральных схем. К первому предлагается отнести продукцию с полным циклом производства пластин и использованием фотошаблонов и монокристаллов, а ко второму — продукцию без этих операций. Итоговый балл формируется из трёх составляющих — доли выполненных в стране технологических операций, доли использования отечественных компонентов и доли российского программного обеспечения и сложнофункциональных блоков.
Для наиболее сложных схем второго уровня, которые производятся по техпроцессу 28 нм и меньше, предусмотрены поэтапно повышающиеся пороги: от 21 балла в 2027 году до 36 баллов в 2038 году. При этом ранее выданные реестровые записи для продукции первого и второго уровней сохранят силу до окончания срока их действия, а разные пункты постановления будут вступать в силу в разное время с 1 июля 2026 года по 1 января 2027 года.



Добавить комментарий